設備・製造工程ソリューション

AMC ソリューション
設備・製造工程ソリューション

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Tools Solutions

半導体産業において、設備・機器は重要な役割を果たします。部品や製品に最も直接的に触れる段階であり、最終製品の歩留まり率に影響を及ぼします。設備自体の技術及び性能要件のほか、設備内部環境の清浄管理にも注意を払わなければなりません。製造工程でのライン幅がナノ級まで縮小するにつれ、分子状汚染物質の潜在的な脅威は日増しに深刻になっていきます。微量でも汚染物質が設備の重要なエリアに入り込むと、部品性能の劣化、欠陥の発生をもたらすほか、製造工程の安定度や歩留まり率に影響を及ぼす可能性があります。

そのため、鈺祥企業は半導体設備製造における要求に応じた高性能ケミカルフィルターシリーズを設計しました。各先端設備・機械などに幅広く使用でき、柔軟かつ適応性に優れたAMC分子状汚染物質対策ソリューションを提供します。

主な特色は以下の通りです。

多様な製品設計：異なる製造工程条件や設備構造に応じた専用のフィルターを独自に開発することで、カスタマイズニーズに柔軟に対応します。
高効率な汚染物質の除去：酸性、アルカリ性、有機物等のさまざまな分子汚染物質を効率的に除去することで、製造工程環境における清浄度の安定を確保します。
製造工程における歩留まりの保証：設備の動作環境における清浄基準が最高になるよう支援し、分子状汚染物質による不良率のリスクを低減します。

このほか、鈺祥は世界の半導体設備製造メーカーと密接に連携し、次世代設備におけるろ過技術を計画しています。技術の共創と将来を見据えた開発を通じ、鈺祥は設備ろ過に関する技術の動向を率先して把握し、次世代製造設備におけるAMC対策市場を積極的に獲得していきます。また先端プロセスにおいては、極めてクリーンな環境に対する厳格な要求を満たしていきます。