设备制程解决方案

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Tools Solutions

在半导体产业，设备机台扮演着关键角色，为最直接接触组件与产品的生产环节，对最终产品良率具有决定性影响。除设备的技术与性能要求外，设备内部环境的洁净控制亦不可忽视。随着制程线宽持续微缩至奈米级，气态分子污染物对制程的潜在威胁日益加剧。微量污染源一旦进入设备关键区域，将可能导致组件性能劣化、缺陷生成，甚至影响制程稳定性与成品良率。

为此，钰祥企业针对半导体设备制程需求，设计出一系列高效能化学过滤器，可应用于各类先进设备机台，提供灵活且高适应性的AMC微污染控制解决方案。

Tools 主要特点

多样化产品设计：依据不同制程条件及设备结构，量身开发各式专用过滤器，灵活支持定制需求。
高效污染物去除：有效过滤酸性、碱性、有机等分子污染物，确保制程环境洁净稳定。
制程良率保障：协助设备运作环境达到最高洁净标准，降低微污染导致的不良率风险。

此外，钰祥与全球半导体设备制造商密切合作，提前布局未来世代设备过滤技术。通过技术共创与前瞻开发，钰祥率先掌握设备过滤关键技术趋势，积极抢占次世代制程设备AMC控制市场，满足先进制程对极致洁净环境的严苛要求。

平板化学过滤器

堆栈式化学过滤器

再生型化学过滤器

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