在半導體產業中，設備機台（Tools）扮演著關鍵角色，為最直接接觸元件與產品的生產環節，對最終產品良率具有決定性影響。除了設備本身的技術與性能要求外，設備內部環境的潔淨控制亦不可忽視。
隨著製程線寬持續微縮至奈米級，氣態分子污染物（Airborne Molecular Contamination, AMC）對製程的潛在威脅日益加劇。微量污染源一旦進入設備關鍵區域，將可能導致元件性能劣化、缺陷生成，甚至影響製程穩定性與成品良率。
為此，鈺祥企業針對半導體設備製程需求，設計出一系列高效能化學濾網，可廣泛應用於各類先進設備機台，提供靈活且高適應性的AMC微污染控制解決方案。主要特點包括：
- 多樣化產品設計：依據不同製程條件及設備結構，量身開發各式專用濾網，靈活支援客製化需求。
- 高效污染物去除：有效過濾酸性、鹼性、有機等多類型分子污染物，確保製程環境潔淨穩定。
- 製程良率保障：協助設備運作環境達到最高潔淨標準，降低微污染導致的不良率風險。
此外，鈺祥與全球半導體設備製造商密切合作，提前佈局未來世代設備過濾技術。透過技術共創與前瞻開發，鈺祥率先掌握設備過濾關鍵技術趨勢，積極搶占次世代製程設備AMC控制市場，並滿足先進製程對極致潔淨環境的嚴苛要求。
左右滑動看表格| 照片 | 產品名稱 | 產品介紹 |
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平板化學濾網 Panel Type Filter | • 尺寸設計彈性高，靈活應用各類場域 • 提供多種規格尺寸，可即時供應生產需求 • 高效過濾與使用壽命長 • 廣泛應用於FFU及各類機台設備領域 |
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堆疊式化學濾網 Stacked Type Filter | • 本產品為原多功能一體式濾網的升級優化版本 • 可依不同目標氣體污染物，靈活更換對應的濾材組合 • 可依據實際過濾環境，彈性調整各項AMC氣體的濃度控制策略 |
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再生型化學濾網 Regenerative Filter | • 採用專利物理再生技術，TVOC濾網可重複再生>10次 • 高再生效能 (>99%)，延長產品使用壽命 • 大幅減少廢棄物及碳排放，降低處理成本 • 支援循環使用，協助客戶淨零減碳與永續發展目標 |